研讨会简介

本次研讨会聚焦折超混合光学前沿领域，研讨会中使用武汉二元科技旗舰产品 - OAS 光学软件，软件完全国产自主可控，支持几何光学和物理光学跨尺度计算。
通过 OAS 软件深入剖析折超混合光学系统设计要点，包括超透镜相位轮廓构造、宽波段消色差优化、系统级追迹仿真等核心技术。分享超表面与折射透镜联合设计的实践经验，探讨轻量化集成、像差校正等创新思路，助力企业突破传统光学设计局限，提升折超混合系统研发水平。

研讨会大纲

1.OAS超表面设计原理和仿真路线；
2.序列模式下的折超混合光学系统设计和优化实例；
3.折超混合光学系统的非序列追迹分析；
4.折超混合光学系统的物理光学分析。

（部分案例图片）

研讨会详情

主办单位：武汉二元科技有限公司
举办时间：10月21日，周二（15：00-16：00）
举办形式：线上研讨会
报名费用：免费
报名方式：扫描下方二维码

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